光刻胶领域，我国取得新突破

md_5786 · 发表于 2025-10-26 05:03

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【光刻胶领域，我国取得新突破】据科技日报，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》、

璀璨红心 · 发表于 2025-10-26 09:29

首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构

水木子 · 发表于 2025-10-26 09:51

好好学习，天天向上！

sheliatang · 发表于 2025-10-26 10:20

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众衫小 · 发表于 2025-10-26 10:46

谢谢楼主分享！

王运成 · 发表于 2025-10-26 12:43

感谢提供信息分享。

大老郭 · 发表于 2025-10-26 13:27

好好学习天天向上

二一九 · 发表于 2025-10-26 21:12

好好学习，天天向上！

武刘香 · 发表于 2025-10-26 21:18

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光刻胶领域，我国取得新突破

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